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    四氟化碳_CF4氣體_高純四氟化碳氣體廠家直銷【宏錦化工】

    來源:宏錦化工時間:2021-03-15點擊數:載入中...


    別名:四氟甲烷、Freon-14、R 14、全氟甲烷
    化學式:CF4
    CAS:75-73-0
    外觀:無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體
    應用:用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑
    產地:四川
    品牌:宏錦化工
    純度:99.999%
    包裝:47L
    氣體含量:30公斤
    服務:可按客戶需求配置其他鋼瓶包裝
    銷售及配送范圍:全國


    其他各種純度、鋼瓶包裝均有售賣,可按照客戶的要求配置。
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    咨詢熱線:028-84791130




    性質與穩定性
    常溫常壓下穩定,避免強氧化劑、易燃或可燃物。不燃氣體,遇高熱后容器內壓增大,有開裂、爆炸危險?;瘜W性質穩定,不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發生作用。

    操作注意事項
    密閉操作,全面通風。操作人員必須經過專門培訓,嚴格遵守操作規程。遠離易燃、可燃物。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。避免與氧化劑接觸。搬運時輕裝輕卸,防止鋼瓶及附件破損。配備泄漏應急處理設備。

    儲存注意事項
    儲存于陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易(可)燃物、氧化劑分開存放,切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。

    運輸注意事項
    采用鋼瓶運輸時必須戴好鋼瓶上的安全帽、鋼瓶一般平放,并應將瓶口朝同一方向,不可交叉;高度不得超過車輛的防護欄板,并用三角木墊卡牢、防止滾動。嚴禁與易燃物或可燃物、氧化劑等混裝混運。夏季應早晚運輸,防止日光曝曬。鐵路運輸時要禁止溜放。

    用途
    1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
    2.是微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
    3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術。





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